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TY10Optofab3000離子束設(shè)備ZX21

TY10

Optofab3000離子束設(shè)備

ZX21
Optofab3000離子束設(shè)備
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英國牛津 離子束設(shè)備 - Optofab3000介紹

專為DWDM器件設(shè)計的Optofab3000系統(tǒng),使DWDM鍍膜成為一項簡單的事情

Optofab3000:制作DWDM光濾波器的離子束濺射沉積系統(tǒng)

迅速增長的光通信業(yè)務(wù)流量對通信帶寬和容量提出了越來越高的要求。光器件廠商需要生產(chǎn)能力大產(chǎn)量高的加工系統(tǒng)。離子束濺射沉積是生產(chǎn)高質(zhì)量、高精度光學薄膜的最佳選擇。Optofab3000系統(tǒng)是一個基于已成熟的Ionfab300plus系統(tǒng)之上的組合式的離子束系統(tǒng),可以進行高質(zhì)量的刻蝕和沉積加工。在高性能光學器件市場中,牛津儀器等離子體技術(shù)設(shè)備公司已經(jīng)成為全球領(lǐng)先的離子束沉積系統(tǒng)生產(chǎn)商。典型的應(yīng)用包括DWDM 濾波器、分插復用器、增益平坦濾波器和抗反射薄膜等。

Optofab3000更高的沉積速率

Optofab3000系統(tǒng)由于改進了離子光學/系統(tǒng)幾何結(jié)構(gòu),同時具有高速率的離子源,因此具有較高的沉積速率。其離子源是15cm的射頻源,具有三個碟形鉬柵格的設(shè)計。這種新的設(shè)計具有柵格形狀穩(wěn)定、離子束形狀可控制等特點,可以實現(xiàn)高速均勻沉積。該系統(tǒng)還配有長壽命的中和器,從而保證穩(wěn)定的操作以及束流和靶的有效中和。

材料        450mA下的沉積速率    折射率
sio2        3.0A/secs                 1.465
Ta2o5     >3.35 A/secs            2.065
 
Optofab3000更好的膜均勻性
 
DWDM濾波器對于膜層的均勻性和重復性要求很高。Optofab3000自身的膜層均勻性可以達到<±1%,使用均勻性掩膜可以將膜層的均勻性進一步提高到±0.1%以下。
 
Optofab3000層間均勻性
 
高速旋轉(zhuǎn)的襯底托盤可以保證層間均勻性。我們獨特的設(shè)計基于托盤的特點:它可以放置直徑8",
厚度6mm的襯底。
 
Optofab3000光學薄膜厚度控制
 
對于沉積系統(tǒng)來說,是否能夠沉積高精度的多層膜變得越來越重要。為了確保每一層膜準確的光學厚度,以及濾波器具有所需的光學特性,使用光學監(jiān)測器是必要的。系統(tǒng)利用光學厚度監(jiān)測器來控制所需要的光譜特性,而不只是控制薄膜的厚度。在工藝過程中,監(jiān)測器可以根據(jù)預設(shè)的濾波器的特性發(fā)出指令來改變相應(yīng)的膜層。這樣就實現(xiàn)了系統(tǒng)的智能過程控制,從而可以補償工藝精度的偏差。
 
Optofab3000襯底操作
 
Optofab3000配置了單片襯底鎖定進樣裝置,可以進行連續(xù)加工而不破壞真空。系統(tǒng)的大
部分設(shè)計都調(diào)整到允許長期處于真空狀態(tài),
從而進一步提高工藝過程的穩(wěn)定性。
 
Optofab3000系統(tǒng)尺寸
 
Optofab3000采用組合式的系統(tǒng)設(shè)計。在需要安裝多個系統(tǒng)的應(yīng)用環(huán)境下,可以為用戶節(jié)約很大的成本。該系統(tǒng)底座很?。ㄐ∮?平方米),比同類型的系統(tǒng)更能節(jié)省超凈間空間。而且由于其反應(yīng)室較小,只需要使用型真空泵,因此可以降低運行成本。
 
 
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Optofab3000離子束設(shè)備

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