英國牛津 等離子設備 - Plasmalab System100系列產品
Plasmalab System100是當今世界上半導體光電子行業(yè)的主流機型,預真空鎖(Load Lock)的配置使我們客戶的產品質量得到了很大的提高。
該設備同樣為模塊化設計,可以根據客戶的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同時載片量也可以根據需求從一次處理單片2"直到一次處理7片2"。
Plasmalab System100系列 - PECVD(等離子增強型化學氣相沉積)配置產品介紹
典型應用:
各種介質薄膜的沉積(SiO2,SiNx,SiOxNx)
厚膜SiO2,SiNx的沉積
各種摻雜類厚膜沉積(摻Ge,BSG,PSG,BPSG)
SiC薄膜的沉積
無定型Si薄膜的沉積
液態(tài)源(TEOS)厚膜沉積
System100系列 - PECVD(等離子增強型化學氣相沉積)配置主要配置:
雙頻配置很好的解決了厚膜應力問題
205mm或240mm直徑以及400攝氏度或700攝氏度的下電極配置,可以滿足各種工藝需求
外部Gas Pod配置是設備日常維護變得非常輕松
發(fā)射光譜(Optical Emmision)EPD配置使真空腔的清洗變得非常簡單
System100系列 - PECVD(等離子增強型化學氣相沉積)配置選配件:
預真空鎖(Load Lock)的干泵配置,維護簡單
分子泵配置更徹底的解除了有毒氣體對操作人員的威脅