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System100-ICP等離子

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英國牛津System100-ICP等離子詳細介紹
System100-ICP等離子性能特點

英國牛津 等離子設備 - Plasmalab System100系列產(chǎn)品

Plasmalab System100是當今世界上半導體光電子行業(yè)的主流機型,預真空鎖(Load Lock)的配置使我們客戶的產(chǎn)品質(zhì)量得到了很大的提高。
  該設備同樣為模塊化設計,可以根據(jù)客戶的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同時載片量也可以根據(jù)需求從一次處理單片2"直到一次處理7片2"。

Plasmalab System100系列 - ICP(高密度等離子體)配置產(chǎn)品介紹

典型應用:

  • InP,GaAs,GaN系列三五簇材料的臺面及溝槽刻蝕
  • InP,GaAs系列通孔(Via Hole)刻蝕
  • 深硅刻蝕
  • 厚膜SiO2,SiNx刻蝕
  • 紅外器件應用,CMT,InSb系列材料刻蝕

    System100系列 - ICP(高密度等離子體)主要配置:   
  • 先進的基于Windows NT的PC2000控制軟件,工藝全程計算機控制,操作簡捷
  • ICP專用真空腔設計以及200mm真空管路配置,最大限度的發(fā)揮了ICP的功效
  • 根據(jù)具體工藝配置的ICP180或ICP380系統(tǒng),集成了靜電屏蔽裝置,實現(xiàn)了“True ICP”的功能
  • 不同尺寸的下電極配置,最多可以一批處理7片2"樣片,使小批量生產(chǎn)成為可能;同時也可以兼顧科研、開發(fā)方面的應用
  • 預真空鎖(Load Lock)的配置完全將有毒及危險氣體與凈化車間隔離開來,最大限度保證了操作人員的安全
  • 大抽速、防腐蝕真空泵組的配置,保證了設備的長期穩(wěn)定運轉   

    System100系列 - ICP(高密度等離子體)選配件:
  • 激光干涉終點控制系統(tǒng)(EPD)可以在實時控制刻蝕的深度
  • 干泵配置使設備維護更加簡單
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功能描述英國牛津System100-ICP等離子
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