Optofab3000離子束設(shè)備性能特點(diǎn)
英國牛津 離子束設(shè)備 - Optofab3000介紹
專為DWDM器件設(shè)計(jì)的Optofab3000系統(tǒng)，使DWDM鍍膜成為一項(xiàng)簡單的事情
Optofab3000：制作DWDM光濾波器的離子束濺射沉積系統(tǒng)
迅速增長的光通信業(yè)務(wù)流量對(duì)通信帶寬和容量提出了越來越高的要求。光器件廠商需要生產(chǎn)能力大產(chǎn)量高的加工系統(tǒng)。離子束濺射沉積是生產(chǎn)高質(zhì)量、高精度光學(xué)薄膜的最佳選擇。Optofab3000系統(tǒng)是一個(gè)基于已成熟的Ionfab300plus系統(tǒng)之上的組合式的離子束系統(tǒng)，可以進(jìn)行高質(zhì)量的刻蝕和沉積加工。在高性能光學(xué)器件市場中，牛津儀器等離子體技術(shù)設(shè)備公司已經(jīng)成為全球領(lǐng)先的離子束沉積系統(tǒng)生產(chǎn)商。典型的應(yīng)用包括DWDM 濾波器、分插復(fù)用器、增益平坦濾波器和抗反射薄膜等。
Optofab3000更高的沉積速率
Optofab3000系統(tǒng)由于改進(jìn)了離子光學(xué)/系統(tǒng)幾何結(jié)構(gòu)，同時(shí)具有高速率的離子源，因此具有較高的沉積速率。其離子源是15cm的射頻源，具有三個(gè)碟形鉬柵格的設(shè)計(jì)。這種新的設(shè)計(jì)具有柵格形狀穩(wěn)定、離子束形狀可控制等特點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)高速均勻沉積。該系統(tǒng)還配有長壽命的中和器，從而保證穩(wěn)定的操作以及束流和靶的有效中和。
材料 450mA下的沉積速率 折射率
sio2 3.0A/secs 1.465
Ta2o5 >3.35 A/secs 2.065
Optofab3000更好的膜均勻性
DWDM濾波器對(duì)于膜層的均勻性和重復(fù)性要求很高。Optofab3000自身的膜層均勻性可以達(dá)到<±1%，使用均勻性掩膜可以將膜層的均勻性進(jìn)一步提高到±0.1%以下。
Optofab3000層間均勻性
高速旋轉(zhuǎn)的襯底托盤可以保證層間均勻性。我們獨(dú)特的設(shè)計(jì)基于托盤的特點(diǎn)：它可以放置直徑8"，
厚度6mm的襯底。
Optofab3000光學(xué)薄膜厚度控制
對(duì)于沉積系統(tǒng)來說，是否能夠沉積高精度的多層膜變得越來越重要。為了確保每一層膜準(zhǔn)確的光學(xué)厚度，以及濾波器具有所需的光學(xué)特性，使用光學(xué)監(jiān)測器是必要的。系統(tǒng)利用光學(xué)厚度監(jiān)測器來控制所需要的光譜特性，而不只是控制薄膜的厚度。在工藝過程中，監(jiān)測器可以根據(jù)預(yù)設(shè)的濾波器的特性發(fā)出指令來改變相應(yīng)的膜層。這樣就實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)的智能過程控制，從而可以補(bǔ)償工藝精度的偏差。
Optofab3000襯底操作
Optofab3000配置了單片襯底鎖定進(jìn)樣裝置，可以進(jìn)行連續(xù)加工而不破壞真空。系統(tǒng)的大
部分設(shè)計(jì)都調(diào)整到允許長期處于真空狀態(tài)，
從而進(jìn)一步提高工藝過程的穩(wěn)定性。
Optofab3000系統(tǒng)尺寸
Optofab3000采用組合式的系統(tǒng)設(shè)計(jì)。在需要安裝多個(gè)系統(tǒng)的應(yīng)用環(huán)境下，可以為用戶節(jié)約很大的成本。該系統(tǒng)底座很小（小于3平方米），比同類型的系統(tǒng)更能節(jié)省超凈間空間。而且由于其反應(yīng)室較小，只需要使用型真空泵，因此可以降低運(yùn)行成本。
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